參與化學反應：在半導體制造過程中，氣體作為反應氣體參與到化學反應中，例如氫氣、氧氣等，這些氣體可以直接參與到半導體材料的合成和改性過程中。此外，特殊氣體如硅烷、鍺烷、磷烷等，這些氣體主要用于集成電路制造中的反應氣體，涉及高純多晶硅的制作、二氧化硅薄膜的沉積、氮化硅薄膜的沉積等多個方面。
溫度控制：在半導體外延生長過程中，氣體也扮演著重要的角色。例如，氫和氯硅烷等氣體源用于硅外延生長，其中氫氣常用于降低生長溫度，確保外延層的質量和性能。
保護作用：在高溫烘烤或清洗過程中，氮氣、氬氣等惰性氣體被用作保護氣體，防止半導體材料被氧化或其他形式的損害。這些氣體能夠提供一個惰性環境，保護半導體材料在處理過程中不受外界環境的影響。